Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse mag-netron sputtering
Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse mag-netron sputtering
复制标题
非脉冲期间靶材偏置电压对脉冲磁控溅射的影响
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Baba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Nakano;C. Murata;S. Baba
