Edgeless detectors fabricated by dry etching process
Edgeless detectors fabricated by dry etching process
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采用干法蚀刻工艺制造的无边缘探测器
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Ullán
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Pellegrini;M. Lozano;F. Campabadal;C. Fleta;J. M. Rafí;M. Ullán
