Structural characteristic and thermal stability of nanoporous SiO2 low-k thin films prepared by sol–gel method with catalyst HF
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DOI：
10.1016/j.mseb.2005.11.034
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发表时间：
2006-03
影响因子：
3.6
通讯作者：
Z. He;X. Liu;J. Gou;Yinyue Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Z. He;X. Liu;J. Gou;Yinyue Wang
