Comparative study of damage production in ion implanted III–V-compounds at temperatures from 20 to 420 K
Comparative study of damage production in ion implanted III–V-compounds at temperatures from 20 to 420 K
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离子注入 III-V 族化合物在 20 至 420 K 温度下损伤产生的比较研究
DOI：
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
W. Wesch
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Wendler;B. Breeger;C. Schubert;W. Wesch
