Effects of Extremely High Instantaneous Deposition Rate on Epitaxial Nucleation of Thin Films

Effects of Extremely High Instantaneous Deposition Rate on Epitaxial Nucleation of Thin Films
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极高瞬时沉积速率对薄膜外延成核的影响

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Proc.of 7th China-Japan Symposium on Thin Films (CJSTF VII)
影响因子：
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通讯作者：
W.Han
W.Han
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
X.Chen;J.Yang;G.Wu;A.Morimoto;W.Han

文献摘要

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