Generation of Solid Source H 2O Plasma Liquid Source Dry Etching
Generation of Solid Source H 2O Plasma Liquid Source Dry Etching
复制标题
固体源H 2O 等离子体液体源干法蚀刻的产生
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akihiro Matsutani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Matsutani;Hideo Ohtsuki;Fumio Koyama;松谷晃宏;Akihiro Matsutani
