ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長
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采用雾气CVD法外延生长VO2薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平藤哲司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
木村信;池之上卓己;三宅正男;平藤哲司
