Formation of electron internal transport barriers by highly localized electron cyclotron resonance heating in the large helical device
Formation of electron internal transport barriers by highly localized electron cyclotron resonance heating in the large helical device
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大型螺旋装置中高度局域电子回旋共振加热形成电子内部传输势垒
DOI：
10.1088/0741-3335/45/7/310
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发表时间：
2003
影响因子：
2.2
通讯作者：
O. Motojima
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Shimozuma;S. Kubo;H. Idei;Y. Yoshimura;T. Notake;K. Ida;N. Ohyabu;I. Yamada;K. Narihara;S. Inagaki;Y. Nagayama;Y. Takeiri;H. Funaba;S. Muto;K. Tanaka;M. Yokoyama;S. Murakami;M. Osakabe;R. Kumazawa;N. Ashikawa;M. Emoto;M. Goto;K. Ikeda;M. Isobe;T. Kobichi;Y. Liang;S. Masuzaki;T. Minami;J. Miyazawa;S. Morita;T. Morisaki;T. Mutoh;H. Nakanishi;K. Nishimura;N. Noda;S. Ohdachi;Y. Oka;T. Ozaki;B. Peterson;Y. Narushima;A. Sagara;K. Saito;S. Sakakibara;R. Sakamoto;M. Sasao;M. Sato;K. Satoh;T. Seki;S. Shoji;H. Suzuki;N. Tamura;K. Tokuzawa;Y. Torii;K. Toi;K. Tsumori;K. Watanabe;T. Watari;S. Yamamoto;T. Yamamoto;M. Yoshinuma;K. Yamazaki;S. Sudo;K. Ohkubo;K. Itoh;A. Komori;H. Yamada;O. Kaneko;Y. Nakamura;K. Kawahata;K. Matsuoka;O. Motojima
在大型螺旋装置中，当电子回旋共振加热（ECH）功率高度集中在中性束注入的等离子体中心时，观察到电子热输运（eITB）的内部输运垒。eITB的特点是中心电子温度高达6 - 8kev，梯度非常陡，最高可达55kev m−1，在归一化平均半径ρ≈0.3范围内具有较低的电子热扩散率，并且存在明确的ECH功率和等离子体碰撞阈值。
Internal transport barriers with respect to electron thermal transport (eITB) were observed in the large helical device, when the electron cyclotron resonance heating (ECH) power was highly localized on the centre of a plasma sustained by neutral beam injection. The eITB is characterized by a high central electron temperature of 6–8 keV with an extremely steep gradient, as high as 55 keV m−1 and a low electron thermal diffusivity within a normalized average radius ρ≈0.3 as well as by the existence of clear thresholds for the ECH power and plasma collisionality.
S. Sudo、Y. Nagayama、M. Emoto、M. Goto、Y. Hamada、K. Ida、T. Ido、H. Iguchi、S. Inagaki、M. Isobe、K. Kawahata、K. KMopenkov、S.
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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作者：
通讯作者：
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大型螺旋装置中的电子回旋发射诊断
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Journal of Plasma and Fusion Research 79
影响因子：
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作者：
Y.Nagayama;et al.
通讯作者：
et al.
LHD 配置的限制特性实现了最高 beta 值
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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作者：
K. Y. Watanabe;et al.
通讯作者：
et al.