N(^4S) Formation following 193,3 nm ArF laser irradiation of NO and NO_2 and its application to kinetic studies of N(^4S) reactions with NO and NO_2

N(^4S) Formation following 193,3 nm ArF laser irradiation of NO and NO_2 and its application to kinetic studies of N(^4S) reactions with NO and NO_2
复制标题

193,3 nm ArF 激光照射 NO 和 NO_2 后 N(^4S) 的形成及其在 N(^4S) 与 NO 和 NO_2 反应动力学研究中的应用

DOI:
--
复制
发表时间:
2005
期刊:
J.Phys.Chem.A 109
影响因子:
--
通讯作者:
K.Shibuya
K.Shibuya
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
T.Nakayama;K.Takahashi;Y.Matsumi;K.Shibuya

文献摘要

被引文献

相似文献