Low Energy Indium or Gallium Ion Implantations to SiO<sub>2 </sub>Thin Films for Development of Novel Catalysts
Low Energy Indium or Gallium Ion Implantations to SiO<sub>2 </sub>Thin Films for Development of Novel Catalysts
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低能铟或镓离子注入 SiO<sub>2 </sub>薄膜用于新型催化剂的开发
DOI：
10.1380/ejssnt.2014.197
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发表时间：
2014
影响因子：
0.7
通讯作者：
S. Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yoshimura;M. Kiuchi;Y. Nishimoto;M. Yasuda;A. Baba;S. Hamaguchi
