熱処理によるCVD-SiO_2の緻密化と圧縮応力緩和

熱処理によるCVD-SiO_2の緻密化と圧縮応力緩和
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热处理CVD-SiO_2的致密化和压应力松弛

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
他
他
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
染谷満;他

文献摘要

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