Very Low-Temperature Epitaxial Growth of Silicon and Germanium Using Plasma-Assisted CVD (Invited Paper)
Very Low-Temperature Epitaxial Growth of Silicon and Germanium Using Plasma-Assisted CVD (Invited Paper)
复制标题
使用等离子体辅助 CVD 进行硅和锗的极低温外延生长（特邀论文）
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J. Murota
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Sakuraba;D. Muto;M. Mori;K. Sugawara;J. Murota
