Facile control of V/Bi ratio in bismuth vanadate films by oxygen pressure in sputtering for enhanced photoelectrochemical performance
Facile control of V/Bi ratio in bismuth vanadate films by oxygen pressure in sputtering for enhanced photoelectrochemical performance
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通过溅射中的氧压轻松控制钒酸铋薄膜中的 V/Bi 比率，以增强光电化学性能
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takeaki Sakurai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Liu Jiaqi;Namiki Uezono;Sachin A. Pawar;Muhammad Monirul Islam;Shigeru Ikeda;Takeaki Sakurai
