Gas-source chemical vapor deposition growth of tungsten disulphide atomic layers with high grain size uniformity
Gas-source chemical vapor deposition growth of tungsten disulphide atomic layers with high grain size uniformity
复制标题
高晶粒尺寸均匀性二硫化钨原子层的气源化学气相沉积生长
DOI：
--
复制
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
入沢 寿史
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
岡田 光博;岡田 直也;張 文馨;清水 哲夫;久保 利隆;入沢 寿史
