窒素プラズマ誘起固液界面反応によるHfSiON膜作製:界面SiO_2との反応過程
窒素プラズマ誘起固液界面反応によるHfSiON膜作製:界面SiO_2との反応過程
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氮等离子体诱导固液界面反应制备HfSiON薄膜：界面SiO_2的反应过程
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
北嶋武
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Ichikawa;S.Nozawa;T.Sato;A.Tomita;K.Ichiyanagi;M.Chollet;L.Guerin;N.Dean;A.Cavalleri;S.Adachi;T.Arima;H.Sawa;Y.Ogimoto;M.Nakamura;R.Tamaki;K.Miyano;S.Koshihara;北嶋武
