顕微赤外分光法を用いたポーラスSi表面上でのDNAハイブリダイゼーション反応の検出II
顕微赤外分光法を用いたポーラスSi表面上でのDNAハイブリダイゼーション反応の検出II
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使用微红外光谱 II 检测多孔硅表面上的 DNA 杂交反应
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山口僚太郎;他
