Deposition of amorphous carbon films by inductively coupled CH_4 plasmas
Deposition of amorphous carbon films by inductively coupled CH_4 plasmas
复制标题
电感耦合CH_4等离子体沉积非晶碳薄膜
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Kimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masato Nakamura;Junya Sekikawa;Takashi Kimura and Ryotaro Nishimura;Junya Sekikawa;Takashi Kimura
