Wettability Patterning of The Silicon Nanospike-Array Structures Prepared by Using Self-Organized Polymer Structures as Etching Masks
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使用自组织聚合物结构作为蚀刻掩模制备硅纳米钉阵列结构的润湿性图案
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yuji Hirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuji Hirai;Hiroshi Yabu;Yasutaka Matsuo;Kuniharu Ijiro;Masatsugu Shimomura;Yuji Hirai;Yuji Hirai;平井悠司;Yuji Hirai
