AlN基板上UV-C LDのプロセス起因劣化
AlN基板上UV-C LDのプロセス起因劣化
复制标题
AlN 基板上 UV-C LD 的工艺诱导降解
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
天野浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
笹岡千秋;久志本真希;張梓懿;天野浩
