インフライトプラズマCVDによるシリコン量子ドット合成:収量及び粒径分布計測
インフライトプラズマCVDによるシリコン量子ドット合成:収量及び粒径分布計測
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通过飞行等离子体 CVD 合成硅量子点：产量和粒度分布测量
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
野崎智洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山田陸、Ryan Gresback. 岡崎健;野崎智洋
