ミストCVD法によるIrBr3前駆体を用いたα-Ir2O3薄膜の成長
ミストCVD法によるIrBr3前駆体を用いたα-Ir2O3薄膜の成長
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使用 IrBr3 前驱体通过雾气 CVD 法生长 α-Ir2O3 薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
四戸孝, 金子健太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
赤石智悠; 四戸孝, 金子健太郎
