DIELECTRIC PROPERTIES OF THIN FILMS OF ALUMINIUM OXIDE AND SILICON OXIDE
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DOI：
10.1016/0040-6090(68)90002-3
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发表时间：
1968-01-01
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
JONSCHER, AK
中科院分区：
文献类型：
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作者：
ARGALL, F;JONSCHER, AK
