Electronic Structure and Chemical Reactions at Metal–Alumina and Metal–Aluminum Nitride Interfaces
Electronic Structure and Chemical Reactions at Metal–Alumina and Metal–Aluminum Nitride Interfaces
复制标题
金属-氧化铝和金属-氮化铝界面的电子结构和化学反应
DOI：
10.1111/j.1151-2916.1991.tb04086.x
复制
发表时间：
1991
影响因子：
3.9
通讯作者：
M. Kohyama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
F. Ohuchi;M. Kohyama
关于金属陶瓷界面电子结构和反应化学研究的理论和实验方法。代表电子和热力学应用的金属-Al 2 O 3 和金属-AlN 系统选择
On decrit une approche theorique et experimentale pour l'etude de la structure electronique et des reactions chimiques a l'interface metal-ceramique. On a choisi les systemes metal-Al 2 O 3 et metal-AlN representatifs des applications electroniques et thermomecaniques