Arクラスターイオンビームを用いたSi(111)表面清浄化

Arクラスターイオンビームを用いたSi(111)表面清浄化
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使用 Ar 簇离子束清洁 Si(111) 表面

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
今井和明
今井和明
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
中川駿一郎;斉藤博;大石正和;今井和明

文献摘要

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