酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン分散関係
酸化膜に覆われたナノワイヤ型Si結晶のフォノン分散関係
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氧化膜覆盖的纳米线型硅晶体中声子色散关系
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
富田 将典
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ken Kanazawa;Taku Nishimura;Shoji Yoshida;Hidemi Shigekawa and Shinji Kuroda;Nobuya Mori;Nobuya Mori;K. Kanazawa;富田 将典
