Examination of the pulsing phenomena in pulsed-closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS) of Cr–Al–N thin films
Examination of the pulsing phenomena in pulsed-closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS) of Cr–Al–N thin films
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Cr-Al-N 薄膜脉冲闭场不平衡磁控溅射 (P-CFUBMS) 中脉冲现象的检查
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Rees
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jianliang Lin;J. J. Moore;B. Mishra;W. Sproul;J. Rees
