Y.Tomioka et al.: "Characterization of the interfaces between SiC and oxide films by spectroscopic ellipsometry"Material Science Forum. (to be published).
Y.Tomioka et al.: "Characterization of the interfaces between SiC and oxide films by spectroscopic ellipsometry"Material Science Forum. (to be published).
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Y.Tomioka 等人：“通过椭圆偏振光谱法表征 SiC 和氧化物薄膜之间的界面”材料科学论坛。
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