Room temperature deposition of amorphous p-type CuFeO2 and fabrication of CuFeO2/n-Si heterojunction by RF sputtering method
Room temperature deposition of amorphous p-type CuFeO2 and fabrication of CuFeO2/n-Si heterojunction by RF sputtering method
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DOI：
10.1007/s12034-016-1209-8
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发表时间：
2016-06
影响因子：
1.8
通讯作者：
T. Zhu;Zanhong Deng;X. Fang;Weiwei Dong;Jingzhen Shao;R. Tao;Shimao Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Zhu;Zanhong Deng;X. Fang;Weiwei Dong;Jingzhen Shao;R. Tao;Shimao Wang
