電界砥粒制御技術による研磨効率向上メカニズムの基礎検討 -第2報-
電界砥粒制御技術による研磨効率向上メカニズムの基礎検討 -第2報-
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电场磨料控制技术提高抛光效率机理的基础研究-第二次报告-
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
久住孝幸，新井晶大， 佐藤安弘，赤上陽一， 梅原徳次
中科院分区：
文献类型：
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作者：
久住孝幸;佐藤安弘;池田洋;赤上陽一;梅原徳次;久住孝幸;久住孝幸;久住孝幸;中村竜太;久住孝幸;赤上陽一;久住孝幸，新井晶大， 佐藤安弘，赤上陽一， 梅原徳次
