N.Itabashi: "SiH_3 radical density in pulsed silane plasma" Jpn.J.Appl.Phys.29. 585-590 (1990)
N.Itabashi: "SiH_3 radical density in pulsed silane plasma" Jpn.J.Appl.Phys.29. 585-590 (1990)
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N.Itabashi：“脉冲硅烷等离子体中的 SiH_3 自由基密度”Jpn.J.Appl.Phys.29。
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