Reactive Deposition Epitaxy of α-FeSi2 Islands on Si(001)Observed by in situ X-Ray Diffraction
Reactive Deposition Epitaxy of α-FeSi2 Islands on Si(001)Observed by in situ X-Ray Diffraction
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原位X射线衍射观察α-FeSi2岛在Si(001)上的反应沉积外延
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Matsuoka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Hanada;H. Tajiri;O. Sakata;and T. Matsuoka
