A.Masuda et al.: "Mechanism of Stoichiometric Deposition for Volatile Elements in Multimetal-Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Ablation" Jpn. J. Appl. Phys.35(印刷中). (1996)
A.Masuda et al.: "Mechanism of Stoichiometric Deposition for Volatile Elements in Multimetal-Oxide Films Prepared by Pulsed Laser Ablation" Jpn. J. Appl. Phys.35(印刷中). (1996)
复制标题
A. Masuda 等人：“脉冲激光烧蚀制备的多金属氧化物薄膜中挥发性元素的化学计量沉积机制”Jpn. Appl.35（出版中）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
