A Fast Manufacturability Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm with Adaptive Wafer Image Estimation
A Fast Manufacturability Aware Optical Proximity Correction (OPC) Algorithm with Adaptive Wafer Image Estimation
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具有自适应晶圆图像估计的快速可制造性感知光学邻近校正 (OPC) 算法
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Chikaaki Kodama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ahmed Awad;Atsushi Takahashi;Chikaaki Kodama
