キセノンイメージ炉を用いたCe:Lu2O3-Al2O3-SiO2系ガラスの作製とそのシンチレーション特性の組成依存性
キセノンイメージ炉を用いたCe:Lu2O3-Al2O3-SiO2系ガラスの作製とそのシンチレーション特性の組成依存性
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使用氙像炉制备 Ce:Lu2O3-Al2O3-SiO2 玻璃及其闪烁性能的成分依赖性
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
柳田健之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
白鳥大毅;中内大介;加藤匠;河口範明;柳田健之
