Y.Suda, A.Meguro, H.Maekawa: "High PVCR Si1-xGex/Si Electron-Tunneling RTD Using Multiple-Well and Annealed Thin Double-Layer Buffer"Electrochemical Society Proceedings Volume. (in press). (2002)
Y.Suda, A.Meguro, H.Maekawa: "High PVCR Si1-xGex/Si Electron-Tunneling RTD Using Multiple-Well and Annealed Thin Double-Layer Buffer"Electrochemical Society Proceedings Volume. (in press). (2002)
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Y.Suda、A.Meguro、H.Maekawa：“使用多井和退火薄双层缓冲器的高 PVCR Si1-xGex/Si 电子隧道 RTD”电化学会论文集卷。
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