S.Takami: "Control of Selective Tungster Chemical Vapor Depositior by Monolayer Nitridatior of Silicon Surface" J.Electrochem.Soc.143. L38-L39 (1996)
S.Takami: "Control of Selective Tungster Chemical Vapor Depositior by Monolayer Nitridatior of Silicon Surface" J.Electrochem.Soc.143. L38-L39 (1996)
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S.Takami：“通过硅表面单层氮化控制选择性钨化学气相沉积”J.Electrochem.Soc.143。
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