電着ニッケル薄膜のX線回折法による粒径と転位密度の評価
電着ニッケル薄膜のX線回折法による粒径と転位密度の評価
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X射线衍射法评价电沉积镍薄膜的晶粒尺寸和位错密度
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田中浩人,田中啓介,來海博央,鈴木賢治,菖蒲敬久
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Kurata;C. Sato;K. Wakabayashi;S. Kondo;T. Aoki;田中浩人,田中啓介,來海博央,鈴木賢治,菖蒲敬久
