森本 類, 吉川 明子, 和泉 亮, 松村 英樹: "Cat-CVD法を用いた極薄ゲート絶縁膜の低温形成"電子情報通信学会技術研究報告. SDM2002-48. 25-28 (2002)
森本 類, 吉川 明子, 和泉 亮, 松村 英樹: "Cat-CVD法を用いた極薄ゲート絶縁膜の低温形成"電子情報通信学会技術研究報告. SDM2002-48. 25-28 (2002)
复制标题
Rui Morimoto、Akiko Yoshikawa、Ryo Izumi、Hideki Matsumura：“使用 Cat-CVD 方法低温形成超薄栅极绝缘膜”SDM2002-48 (2002)。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
