Internal Photoemission over HfO2 and Hf(l-x)SixO2 High-k Insulating Barriers: Band Offset and Interfacial Dipole Characterization
Internal Photoemission over HfO2 and Hf(l-x)SixO2 High-k Insulating Barriers: Band Offset and Interfacial Dipole Characterization
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HfO2 和 Hf(l-x)SixO2 高 k 绝缘势垒上的内部光电发射：能带偏移和界面偶极子表征
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Akira Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Julie Widiez;Koji Kita;Kazuyuki Torrlida;Tomonori Nishimura;and Akira Toriumi
