H.Ishikawa O.Kajimoto: "Formation and Decay of vibrationally excited SiH_2 in the 193 nm photolysis of phenylsilane" Chem.Phys.Lett.
H.Ishikawa O.Kajimoto: "Formation and Decay of vibrationally excited SiH_2 in the 193 nm photolysis of phenylsilane" Chem.Phys.Lett.
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H.Ishikawa O.Kajimoto：“苯基硅烷 193 nm 光解中振动激发 SiH_2 的形成和衰变”Chem.Phys.Lett。
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