N.Haneji, G.Segami, K.Ide, T.Suzuki, T.Arakawa, K.Tada, et al.: "Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of III-V Semi-conductors by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2 with Constant Ar Flow"Jpn. J. Appl. Phys.. 42,6B(掲載予定). (2003)
N.Haneji, G.Segami, K.Ide, T.Suzuki, T.Arakawa, K.Tada, et al.: "Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Etching of III-V Semi-conductors by Cyclic Injection of CH_4/H_2/Ar and O_2 with Constant Ar Flow"Jpn. J. Appl. Phys.. 42,6B(掲載予定). (2003)
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N.Haneji、G.Segami、K.Ide、T.Suzuki、T.Arakawa、K.Tada 等人：“通过循环注入 CH_4/H_2 进行 III-V 族半导体的电子回旋共振-反应离子蚀刻” /Ar and O_2 with Constant Ar Flow"Jpn. J. Appl. Phys.. 42,6B（待出版）。（2003）
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