Tamon H.(田門肇): "Influence of oxygen and water vapor on removal of sulfur compounds by selective electron attachment" AIChE J.42. 1481-1486 (1996)
Tamon H.(田門肇): "Influence of oxygen and water vapor on removal of sulfur compounds by selective electron attachment" AIChE J.42. 1481-1486 (1996)
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Tamon H. (Hajime Tamon)：“氧气和水蒸气对通过选择性电子附着去除硫化合物的影响”AIChE J.42 (1996)。
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