K.Yatsui,et al: "Preparation of Thin Films of Dielectric Materials using High-Density Ablation Plasma produced by Intense Pulsed Ion Beam" Mater.Chem.& Phys.54. 219-223 (1998)
K.Yatsui,et al: "Preparation of Thin Films of Dielectric Materials using High-Density Ablation Plasma produced by Intense Pulsed Ion Beam" Mater.Chem.& Phys.54. 219-223 (1998)
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K.Yatsui 等人：“使用强脉冲离子束产生的高密度烧蚀等离子体制备介电材料薄膜”Mater.Chem。
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