Atomic-Scale Analysis of Semiconductor Surfaces after Wet-Chemical Treatments Such as Cleaning and Polishing
Atomic-Scale Analysis of Semiconductor Surfaces after Wet-Chemical Treatments Such as Cleaning and Polishing
复制标题
清洁和抛光等湿化学处理后半导体表面的原子尺度分析
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kentaro Kawai and Mizuho Morita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kenta Arima;Kentaro Kawai and Mizuho Morita
