Al/HfO2/n-Si(100)構造の抵抗変化現象の素子サイズ依存性
Al/HfO2/n-Si(100)構造の抵抗変化現象の素子サイズ依存性
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Al/HfO2/n-Si(100) 结构中电阻变化现象的器件尺寸依赖性
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小林 滉平，寺垣 亮太，吉田 晴彦，新船 幸二，堀田 育志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
寺垣亮太;吉田晴彦;新船幸二;神吉輝夫;堀田育志;小林 滉平，寺垣 亮太，吉田 晴彦，新船 幸二，堀田 育志
