Introduction of charged domain walls into BiFeO3 thin films using a pit-patterned SrTiO3 (001) substrate
Introduction of charged domain walls into BiFeO3 thin films using a pit-patterned SrTiO3 (001) substrate
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使用凹坑图案 SrTiO3 (001) 基板将带电畴壁引入 BiFeO3 薄膜
DOI：
10.7567/1347-4065/ab3897
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Shimizu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Nakashima;S. Kimura;Y. Kurokawa;H. Fujisawa;and M. Shimizu
