後藤康仁: "真空マイクロエレクトロニクス素子の陰極材料としての窒化ニオブ薄膜の作製と評価" 真空. 42(3). (1999)
後藤康仁: "真空マイクロエレクトロニクス素子の陰極材料としての窒化ニオブ薄膜の作製と評価" 真空. 42(3). (1999)
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Yasuhito Goto：“真空微电子器件阴极材料的氮化铌薄膜的制备和评价”真空42(3)。
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