XANAMによるSi-Ge量子ドットにおけるX線誘起力変化の調査
XANAMによるSi-Ge量子ドットにおけるX線誘起力変化の調査
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使用 XANAM 研究 Si-Ge 量子点中 X 射线引起的力变化
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
朝倉 清高
中科院分区：
文献类型：
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作者：
鈴木 秀士;向井 慎吾;田 旺帝;野村 昌治;藤森 俊太郎;池田 弥央;牧原 克典;宮﨑 誠一;朝倉 清高
