エピタキシャルBiFeO3薄膜における電場印加下の格子歪
エピタキシャルBiFeO3薄膜における電場印加下の格子歪
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外延 BiFeO3 薄膜外加电场下的晶格应变
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
清水勝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中嶋誠二;藤沢浩訓;坂田修身;舟窪浩;清水莊雄;一ノ瀬大地;今井康彦;清水勝
