Residual stress and fracture in thick tetraethylorthosilicate (TEOS) and silane-based PECVD oxide films
Residual stress and fracture in thick tetraethylorthosilicate (TEOS) and silane-based PECVD oxide films
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DOI：
10.1016/s0924-4247(01)00610-0
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发表时间：
2001-07
影响因子：
4.6
通讯作者：
Xin Zhang;Kuo-Shen Chen;R. Ghodssi;A. Ayón;S. Spearing
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Xin Zhang;Kuo-Shen Chen;R. Ghodssi;A. Ayón;S. Spearing
